O Instituto Nacional de Ciência de Materiais do Japão desenvolveu um novo tipo de material de filme fino do tipo P
2026-01-22 14:22
Fonte:NIMS
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Pesquisadores do Instituto Nacional de Ciência de Materiais (NIMS) do Japão desenvolveram com sucesso um novo material de filme fino do tipo p que apresenta vantagens significativas na conversão de energia térmica. O desenvolvimento de materiais termoelétricos de alto desempenho enfrenta desafios há muito tempo, principalmente na melhoria do desempenho de filmes finos do tipo p. Este novo filme fino do tipo p, feito de liga de Hessler, apresenta uma eficiência de conversão de energia térmica quatro vezes maior do que materiais similares existentes, abrindo um novo caminho para a recuperação de calor residual e o resfriamento eficiente de dispositivos eletrônicos.

锰掺杂的p型Fe₂VAl Heusler合金薄膜实现了所有p型薄膜材料中最高的功率因子。

A equipe de pesquisa destaca que este novo filme fino do tipo p não é apenas seguro e barato, mas também abre novas perspectivas para aplicações práticas e pesquisa de materiais termoelétricos. Atualmente, uma quantidade significativa de energia térmica é desperdiçada em fábricas e dispositivos eletrônicos, enquanto os sistemas de refrigeração consomem quantidades substanciais de energia. O surgimento deste novo filme fino do tipo p promete melhorar significativamente a eficiência energética por meio da recuperação de calor residual ou do resfriamento eficiente de equipamentos.

O autor principal, Naoto Tsujii, afirmou: "O mecanismo por trás do alto desempenho deste novo material ainda está sob investigação, mas provavelmente está relacionado à microestrutura única do filme." A equipe de pesquisa continuará a explorar o impacto da microestrutura do filme em suas propriedades termoelétricas e espera determinar sua estrutura cristalina precisa para otimizar ainda mais o desempenho do material. Além disso, a equipe planeja estudar as propriedades termoelétricas do filme fino sob diferentes pressões e deformações, a fim de revelar mais mecanismos de alto desempenho. Naoto Tsujii também mencionou que, se a temperatura de deposição do filme puder ser aumentada, o desempenho poderá ser ainda mais aprimorado.

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