Em 22 de outubro, a Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc. China (AMEC), com sede em Xangai, anunciou que a primeira máquina mundial do equipamento de gravação a vapor de alta seletividade Primo Domingo, desenvolvido de forma independente, foi enviada a um importante cliente nacional de pesquisa e fabricação de circuitos integrados. O equipamento destina-se a processos de fabricação de dispositivos semicondutores avançados, como transistores de gate envolvente (GAA), memória flash 3D e memória de acesso aleatório dinâmica 3D (DRAM 3D), sendo utilizado principalmente para gravação de materiais com alta seletividade.

O Primo Domingo adota uma estrutura de câmara totalmente simétrica e um design otimizado de fluxo de campo, integrando injeção de gás, controle de temperatura e regulação de pressão no sistema de processo de gravação, a fim de melhorar a uniformidade de gravação na superfície da bolacha e a repetibilidade do processo. O equipamento está equipado com um gabinete de gás integrado, que encurta o caminho de transporte de gás e possibilita o controle rápido e preciso de gases pulsados. Considerando as condições de uso de gases de gravação altamente reativos, as tubulações internas utilizam materiais de alta resistência à corrosão e revestimentos especiais, atendendo aos requisitos de operação de longo prazo.
O sistema de controle de temperatura da bolacha adota um design de base com duplo resfriamento e duplo aquecimento, permitindo ajustes precisos em uma ampla faixa de temperatura. O equipamento também incorpora o sistema de transporte de bolachas Primo C6V3 da AMEC, já em produção em massa, que pode ser configurado com câmaras de gravação principal e câmaras auxiliares de recozimento, suportando processos de gravação para diferentes materiais e estruturas de dispositivos.
De acordo com dados de pesquisa e desenvolvimento divulgados anteriormente pela AMEC, o Primo Domingo alcançou uma seletividade de gravação de germânio-silício para silício superior a 700:1 em verificações de processo relacionadas a GAA e DRAM 3D em laboratório. Esse indicador refere-se a resultados preliminares de verificação em laboratório e ainda não pode ser considerado como o desempenho medido do equipamento entregue na linha de produção do cliente. Conforme divulgado no relatório semestral de 2026 da empresa, o equipamento já havia realizado diversas verificações de processo na câmara Alpha em laboratório. O envio da primeira máquina representa um novo marco de entrega após a pesquisa, desenvolvimento e verificação em laboratório do produto.
A AMEC lançou o produto Primo Domingo pela primeira vez em março de 2026. Atualmente, seus equipamentos de gravação abrangem diversas aplicações de gravação em processos de 65 nanômetros a 3 nanômetros e mais avançados; os equipamentos de gravação de dielétricos já alcançaram uma razão de aspecto de 60:1 a 90:1, e os equipamentos de gravação de silício atingem até 140:1. Até o final de junho de 2026, a empresa acumulava mais de 8.800 reatores em produção em massa em mais de 220 linhas de produção no país e no exterior.