De acordo com pt.wedoany.com-A Intel Foundry começou a utilizar a tecnologia de litografia ultravioleta extrema de alta abertura numérica (High NA EUV) da ASML para produzir em massa parte dos processadores Panther Lake, ou seja, os produtos da série Intel Core Ultra 3. Esta é a primeira vez que a tecnologia High NA EUV é usada comercialmente para o envio de chips lógicos de alto rendimento. A produção acima mencionada utiliza a plataforma EXE High NA EUV da ASML para camadas específicas do processo Intel 18A. A Intel afirma que atualmente essas camadas de processo receberam dupla certificação tanto na plataforma High NA EUV quanto na plataforma convencional NXE EUV, os produtos já foram entregues aos clientes e a taxa de rendimento é basicamente a mesma do uso da plataforma NXE.

Esta é a primeira vez que a tecnologia de litografia High NA EUV da ASML sai das fases de pesquisa, desenvolvimento e produção experimental para entrar em um ambiente de produção em massa. De acordo com a Intel e a ASML, a aplicação inicial está concentrada apenas em camadas específicas do processo 18A. Essa abordagem ajuda ambas as partes a coletar dados reais sobre o tempo de operação do sistema, controle de processo e execução da produção, mantendo ao mesmo tempo a flexibilidade geral de fabricação. Ao certificar simultaneamente as duas plataformas, NXE e EXE, na mesma camada de processo, a Intel pode aumentar a produção e também reservar espaço para a escolha tecnológica de futuros nós.

A Intel instalou o primeiro equipamento High NA EUV comercial do mundo em 2024 em sua base de pesquisa e desenvolvimento em Hillsboro, Oregon, e posteriormente se tornou a primeira cliente a receber a segunda geração da plataforma TWINSCAN EXE:5200B da ASML. Em comparação com a EXE:5000 de primeira geração, a EXE:5200B apresenta melhorias na taxa de transferência, precisão de sobreposição e desempenho da fonte de luz. A ASML posiciona o High NA EUV como a próxima tecnologia-chave no campo da litografia de semicondutores, que deverá suportar a gravação de padrões mais finos necessários para futuros processadores de inteligência artificial e outros chips avançados.

Atualmente, a Intel Foundry já está usando o equipamento High NA EUV da ASML para fabricar em alto volume seus processadores Panther Lake selecionados, com base em camadas específicas do processo Intel 18A. A Intel relata que sua taxa de rendimento é comparável ao nível de produção usando ferramentas NXE EUV convencionais, e as camadas do processo 18A receberam simultaneamente dupla certificação nas plataformas High NA EXE e NXE. A Intel confirmou que os produtos fabricados com High NA EUV estão sendo enviados aos clientes, e essa implantação utiliza a plataforma EXE High NA EUV da ASML. Anteriormente, a Intel instalou o primeiro equipamento EXE:5000 comercial do mundo e, posteriormente, forneceu as condições para a instalação do primeiro sistema de produção EXE:5200B. O EXE:5200B apresenta melhorias na taxa de transferência, precisão de sobreposição e desempenho da fonte de luz. A Intel e a ASML afirmam que continuarão avaliando a possibilidade de usar High NA EUV em uma escala mais ampla em futuros nós de processo.

Naga Chandrasekaran, vice-presidente executivo e gerente geral da Intel Foundry, afirmou que, ao certificar a opção de processo High NA EUV para camadas selecionadas de produtos Intel 18A, o conjunto atual de ferramentas da empresa pode oferecer maior produção aos clientes, ao mesmo tempo que desenvolve opções de ponta em desempenho, densidade e flexibilidade de fabricação para os próximos nós a serem lançados.

O anúncio acima significa que o High NA EUV passou da fase de desenvolvimento para a fabricação comercial de semicondutores. Embora a Intel atualmente aplique a tecnologia apenas em camadas de processo específicas, e não no chip inteiro, a obtenção da certificação de produção fornece uma validação importante para a viabilidade do High NA EUV na fabricação, além de acumular dados operacionais reais para uma implantação em maior escala em nós mais avançados no futuro. Esse progresso também fortalece o posicionamento da Intel Foundry como parceira líder de fabricação para a próxima geração de tecnologia de litografia. Ao contrário da Intel, outras grandes fundições, como TSMC e Samsung, ainda estão avaliando a aplicabilidade do High NA EUV em futuros nós. A adoção em maior escala em toda a indústria dependerá da economia da fabricação de equipamentos, de novos aumentos na capacidade de transferência e da demanda dos clientes por futuros chips de IA e computação de alto desempenho.