Mitsubishi Chemical anuncia entrada no negócio de sílica coloidal de altíssima pureza para semicondutores, com início de operação na fábrica de Kyushu em 2028

De acordo com pt.wedoany.com-A Mitsubishi Chemical Corporation anunciou sua entrada no negócio de sílica coloidal de altíssima pureza, com planos de construir novas instalações de produção na Fábrica de Kyushu (Complexo de Fukuoka), na cidade de Kitakyushu, província de Fukuoka, com início previsto de operação comercial em outubro de 2028. O investimento no projeto chega a vários bilhões de ienes. Esse material é a matéria-prima central do abrasivo de polimento químico-mecânico (CMP) de semicondutores, utilizado no polimento de superfícies de wafers de silício e na planarização de camadas de interconexão.

A sílica coloidal é indispensável na fabricação de semicondutores. O CMP é um processo essencial na produção de chips, que combina corrosão química e abrasão mecânica para alcançar a planarização em escala nanométrica da superfície do wafer. Com a contínua miniaturização e estratificação dos processos de semicondutores, surgem exigências extremamente altas quanto à pureza do material de polimento, uniformidade das partículas e controle de defeitos superficiais. A sílica coloidal de altíssima pureza que a Mitsubishi Chemical está comercializando desta vez possui pureza de nível 6N (99,9999%), produzida a partir de tetrametoxissilano de altíssima pureza, com um processo de produção integrado que minimiza ao máximo o teor de impurezas. A empresa pode contar com sua tecnologia de fabricação de sílica sintética acumulada ao longo de muitos anos para personalizar parâmetros como tamanho de partícula, densidade e formato, de acordo com as necessidades dos clientes.

A sílica coloidal de altíssima pureza é o abrasivo de maior proporção na solução de polimento CMP, sendo amplamente utilizada em processos críticos como polimento fino de wafers de grande diâmetro, polimento de portas de polissilício no front-end, polimento de interconexões de cobre e plugs de tungstênio no back-end, bem como polimento em empacotamento avançado. O mercado global tem sido monopolizado há muito tempo por um pequeno número de empresas, como a Fuso Chemical do Japão, Evonik, Cabot e Nouryon. A Mitsubishi Chemical já possuía linhas de produtos como pó de sílica sintética e resinas de fotorresiste no setor de materiais para semicondutores; com esta entrada no segmento de materiais de polimento CMP, a empresa ampliará ainda mais seu portfólio de materiais para semicondutores.

A Mitsubishi Chemical afirma que o rápido desenvolvimento da inteligência artificial generativa, dos data centers e da computação de alto desempenho continuará impulsionando a demanda por semicondutores, e a demanda por sílica coloidal de alta pureza na fabricação de wafers também crescerá em consequência. O projeto está alinhado com a direção central de "capacitar o processamento avançado de dados e comunicações" da estratégia de longo prazo "KAITEKI Vision 35" da empresa. O Nikkan Kogyo Shimbun aponta que a Fuso Chemical detém atualmente uma participação elevada no mercado de sílica coloidal de altíssima pureza, e a expansão da demanda por semicondutores tem levado os clientes a promover a diversificação de seus canais de compra, motivo pelo qual a Mitsubishi Chemical decidiu entrar nesse segmento.