Célula bifacial Tipo N TOPCon HG210
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China
Edifício 72, Parque Industrial de Jinrun, Comunidade de Gaoxin, Vila de Gaochang, Distrito de Xuzhou, Cidade de Yibin, Província de Sichuan
13925933306
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Sobre o Produto

Material da base

Pastilha de silício monocristalino tipo N dopada com fósforo

Espessura

130±10%μm

Dimensão

182,2mm*210mm±0,25mm, φ272mm±0,25mm

Frente

16 linhas de grade principais, 210 ±10% linhas de grade secundárias, filme antirreflexo azul (nitreto de silício)

Verso

16 linhas de grade principais, 228 ±10% linhas de grade secundárias, filme antirreflexo azul (nitreto de silício)