Em 30 de julho, o primeiro equipamento de produção em massa Star600-EOSS de pulverização catódica magnetrônica óptica de precisão de 12 polegadas, desenvolvido de forma independente pela Jiangsu Xiantao Microeletrônica, concluiu a montagem e a integração do equipamento na base de produção do Distrito de Alta Tecnologia de Xuzhou, Jiangsu, passou com sucesso pela automação e validação de processo, e foi oficialmente entregue a uma importante fabricante nacional de wafers. O envio bem-sucedido do primeiro equipamento marca um avanço importante da empresa no campo de equipamentos de revestimento óptico de wafer de alta qualidade, desde a pesquisa e desenvolvimento, fabricação até a entrega para industrialização, impulsionando ainda mais o processo de nacionalização desse equipamento.

Tecnologia global avançada de revestimento óptico de wafer é nacionalizada

O Star600-EOSS é um equipamento de pulverização catódica magnetrônica óptica de precisão de wafer de alta qualidade, desenvolvido com base nas capacidades tecnológicas existentes do grupo. Por meio das patentes principais do grupo, banco de dados de processos e sistema de design de máquinas completas, a Jiangsu Xiantao conseguiu implementar com sucesso a engenharia de tecnologia avançada internacional, e combinou suas próprias capacidades de pesquisa e desenvolvimento para concluir a otimização e adaptação de processos, fornecendo suporte robusto de equipamentos para a fabricação de filmes ópticos de alta qualidade.

O Star600-EOSS é projetado especificamente para revestimento óptico de wafer de 12 polegadas e possui múltiplas vantagens em torno das necessidades principais do processo de deposição de filmes. O equipamento adota uma estrutura de pulverização ascendente (Sputter-up) com cátodo rotativo gêmeo, reduzindo a geração de partículas no nível físico e melhorando a estabilidade do processo. O equipamento suporta o processamento de wafers inteiros de 12 polegadas, com uniformidade de espessura do filme dentro do wafer ≤±0,3% e estabilidade de processo entre wafers dentro de 0,3%, sendo perfeitamente adequado para a produção em massa de filmes ópticos de precisão, como filtros de corte infravermelho, revestimentos antirreflexo (AR), filmes dielétricos de guia de onda óptica e filtros de banda estreita com mais de 100 camadas, com excelente desempenho do produto, sem desvio de comprimento de onda e rendimento estável. Além disso, o equipamento integra um sistema de monitoramento on-line espectroscópico in-situ de banda larga, que corrige em tempo real a espessura do filme depositado em malha fechada. Em termos de automação, o módulo frontal EFEM é padrão, compatível com os cassetes FOUP de 12 polegadas comuns da indústria, realizando transferência automática de cassete a cassete por meio de robô de vácuo com ventosa, e suporta interconexão com o sistema MES de fábrica via SECS/GEM, atendendo à produção contínua não tripulada 7×24 horas. O equipamento adota design de processo modular, equipado com múltiplas unidades de cátodo magnetrônico independentes, permitindo a troca livre de vários alvos, e opcionalmente com fonte de íons, pré-tratamento in-situ por plasma e plataforma de controle de temperatura criogênica, atendendo tanto à flexibilidade de preparação de amostras de pesquisa quanto à estabilidade de produção em massa em larga escala.

Diferente de fabricantes de equipamentos individuais, a Jiangsu Xiantao, apoiada pelas vantagens da cadeia industrial completa da empresa-mãe Xiantao Technology Group, formou uma competitividade central verticalmente integrada de "matérias-primas de alvos de alta pureza — equipamentos completos de revestimento — desenvolvimento de processos de filmes". No campo de aplicações de filmes ópticos, a empresa combina os recursos de alvos ópticos de alta pureza do grupo, como índio, tântalo, titânio e silício, para realizar simultaneamente a correspondência de alvos e o desenvolvimento de formulações de processo de acordo com as necessidades dos clientes, fornecendo soluções de revestimento personalizadas de balcão único. O envio bem-sucedido deste equipamento é um resultado importante do avanço contínuo na pesquisa e desenvolvimento independente de equipamentos principais e sua aplicação industrial. No futuro, a empresa continuará focada na inovação tecnológica de deposição avançada de filmes, contribuindo ainda mais para o desenvolvimento de alta qualidade das indústrias de óptica de precisão, óptica de wafer e semicondutores.