De acordo com pt.wedoany.com-A Hangzhou Fonte de Jade Instrumentos de Precisão Ltda. (Fonte de Jade), em colaboração com o Laboratório Nacional Chave de Óptica Extrema e Instrumentação da Universidade de Zhejiang, lançou recentemente a "Máquina de Litografia por Escrita Direta a Laser 3D Nano com 10.000 Canais". Este equipamento fornece suporte tecnológico fundamental para áreas de semicondutores e microfabricação, como máscaras de alto nível, chips fotônicos e metasuperfícies.
A Fonte de Jade foi fundada em dezembro de 2022, com sede em Hangzhou, China. Seus acionistas fundadores são compostos por pesquisadores científicos com anos de experiência em pesquisa óptica e empresários com vasta experiência em gestão empresarial, dedicados a resolver o problema nacional de "gargalo" na tecnologia de litografia.
Embora a tecnologia de escrita direta a laser de dois fótons ofereça alta precisão de processamento, ela é limitada pelo limite físico da varredura de feixe único, dificultando atender às demandas industriais de grande área e alta eficiência. A equipe de P&D da Fonte de Jade propôs um "esquema de regulação independente rápida de 10.000 canais", que pode gerar instantaneamente mais de 10.000 pontos focais de laser paralelos controláveis independentemente. Combinado com um algoritmo de otimização global inteligente, a uniformidade da intensidade luminosa da matriz de pontos focais é melhorada para mais de 95%, superando o gargalo de eficiência da varredura tradicional de feixe único.
O equipamento apresenta desempenho excepcional: a taxa de impressão ultra-alta pode atingir mais de 200 milhões de voxels por segundo; sob processos específicos, o tamanho mínimo de recurso pode chegar a menos de 50 nm; a taxa de varredura 2D atinge 40 mm²/minuto, dezenas de vezes superior à tecnologia tradicional, e a área máxima de processamento pode cobrir completamente wafers de 12 polegadas.
Além de ser utilizado em áreas de microfabricação de máscaras de alto nível, como máscaras fotônicas, máscaras DOE e máscaras MEMS, o equipamento também é adequado para processos personalizados, de pequenos lotes e que exigem iteração rápida. Os cenários de aplicação incluem chips fotônicos e empacotamento avançado, suportando P&D de chips de alta precisão personalizados e de pequenos lotes; sensores MEMS e dispositivos microfluídicos, permitindo a prototipagem rápida de estruturas micro 3D complexas; e componentes ópticos de precisão, atendendo aos requisitos rigorosos de áreas como segurança óptica e comunicação óptica para dispositivos como metalentes e dispositivos DOE.
Este equipamento também fornece o principal dispositivo de fabricação para a produção em escala de campos de ponta, como metasuperfícies. As metasuperfícies, como componentes centrais para futuras tecnologias AR/VR, LiDAR e comunicação 6G, tradicionalmente levam semanas para serem processadas. A tecnologia de 10.000 canais pode reduzir drasticamente o ciclo de processamento para algumas horas. Atualmente, as metasuperfícies se tornaram a primeira categoria de processamento a ser implementada neste equipamento, com vantagens evidentes, impulsionando a comercialização de indústrias de ponta relacionadas.
