De acordo com pt.wedoany.com-A Swiss Cluster, spin-off da Empa, venceu o Prémio Económico Suíço (Swiss Economic Award) de 2026 na categoria "Indústria/Produção". A empresa é especializada no desenvolvimento de equipamentos de vácuo para filmes finos que integram deposição física em fase vapor e deposição atómica de camadas, protegendo componentes complexos ou fabricando filmes funcionais com excelentes propriedades mecânicas e resistência ao calor. Os seus clientes incluem instituições de investigação globais, a indústria relojoeira, fabricantes de eletrónica e empresas do setor ótico.
A Swiss Cluster, sediada em Spiez, na Suíça, foi fundada pelo cientista de materiais Carlos Guerra e pelo engenheiro eletrotécnico Kevin Lücke no laboratório de Mecânica de Materiais e Nanoestruturas da Empa, liderado por Johann Michler, tendo sido estabelecida no final de 2020 na Empa, em Thun. Inicialmente, a empresa dedicou-se ao desenvolvimento de filmes mais resistentes e duráveis. Atualmente, a Swiss Cluster emprega 15 pessoas em Spiez e conta com o apoio de uma rede global de parceiros. As suas máquinas são utilizadas em instituições de investigação e empresas na Suíça, nos Estados Unidos e no Reino Unido, com encomendas prontas para entrega em França, Brasil, Itália e China.
A tecnologia de filmes finos tem aplicações vastas, incluindo a proteção de componentes sensíveis contra desgaste e corrosão, redução de reflexos em lentes, fabrico de filtros óticos especializados, atribuição de cores variáveis a componentes relojoeiros, melhoria da biocompatibilidade de implantes médicos, bem como na produção de transístores, chips e ecrãs na área da microeletrónica. O método comum de produção de filmes finos é a deposição física em fase vapor (PVD), que consiste em evaporar um material de partida numa câmara de vácuo e condensá-lo sobre um substrato. A Swiss Cluster combina a PVD com a deposição atómica de camadas (ALD). Ao contrário da PVD, o processo ALD utiliza a introdução alternada de precursores gasosos para obter revestimentos por reação química com precisão atómica. A ALD é um processo relativamente recente, utilizado na indústria há cerca de 20 anos.
Carlos Guerra, CEO da Swiss Cluster, afirma que a ALD permite criar revestimentos extremamente finos e uniformes, oferecendo proteção contra corrosão e oxidação, enquanto a PVD produz revestimentos muito duros. A combinação dos dois processos permite fabricar filmes duráveis, resistentes ao calor e à corrosão. A empresa integra os sistemas ALD e PVD numa única câmara de vácuo, permitindo que os investigadores concluam em apenas algumas horas nanoestruturas em camadas que antes demoravam uma semana.
A Swiss Cluster não é a primeira empresa a combinar PVD e ALD; esta combinação já é aplicada na indústria de semicondutores. No entanto, Guerra afirma que a Swiss Cluster se foca noutros mercados industriais. Para clientes interessados apenas no processo ALD, a empresa oferece uma segunda máquina que implementa "Batch ALD", uma variante da deposição atómica de camadas, mais rápida e capaz de revestir simultaneamente múltiplos componentes ou peças grandes e complexas. As máquinas da Swiss Cluster são compactas, fáceis de instalar e operar, visando reduzir a barreira de entrada para tecnologias de alta precisão. A empresa também oferece serviços de revestimento em Spiez, colaborando estreitamente com os clientes para que estes possam testar o processo de revestimento sem necessidade de investir imediatamente numa nova máquina. Desde a sua fundação, a Swiss Cluster conta com a participação de clientes, crescendo organicamente principalmente através da venda de equipamentos e serviços, tendo recebido o seu primeiro investimento apenas em 2025. O júri do Fórum Económico Suíço elogiou esta spin-off por combinar excelência científica, compreensão da indústria e capacidade de execução empreendedora.
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