De acordo com pt.wedoany.com-A Samsung SDS (Samsung SDS), subsidiária de tecnologia da informação da Samsung, está desenvolvendo uma tecnologia que integra computação quântica e inteligência artificial (IA) para simular e aprimorar o processo de litografia na fabricação de semicondutores. A empresa planeja testar a tecnologia por meio de uma Prova de Conceito (PoC) no segundo semestre de 2026. Se bem-sucedida, o sistema poderá ser disponibilizado para a Samsung Electronics (Samsung Electronics) em suas operações de semicondutores.

O processo de litografia utiliza luz para transferir padrões de circuitos minúsculos para wafers de silício, e sua precisão impacta diretamente a densidade de transistores e o rendimento de produção dos chips. A fabricação de chips avançados depende de máquinas de litografia de passo e varredura de precisão fabricadas pela empresa holandesa ASML, que projetam o design através de máscaras para a camada fotossensível no wafer.
O núcleo do projeto está no desenvolvimento de algoritmos para simular virtualmente todo o processo antes da litografia física. O computador quântico é responsável pela maior parte do cálculo na fase de simulação, enquanto computadores tradicionais processam os dados gerados, e a inteligência artificial identifica e corrige possíveis erros de padrão. Segundo informações, a Samsung SDS já obteve parte dos algoritmos necessários e testará sua eficácia em ambientes de fabricação de semicondutores durante a fase de Prova de Conceito. O sistema permitirá que a Samsung realize testes virtuais de padrões de circuitos antes de entrar na fase de produção física de alto custo.
Simulações precisas ajudam a detectar problemas de litografia mais cedo, reduzindo o número de testes físicos necessários para desenvolver novos processos de fabricação, além de diminuir o tempo e o custo de padronização e gravação de wafers. Ao identificar defeitos antes da produção, espera-se aumentar o número de chips utilizáveis por wafer (rendimento), e uma padronização mais precisa pode permitir que a empresa coloque mais transistores em uma área menor, aumentando a densidade dos chips. A Samsung prevê que a combinação de computação quântica, computação tradicional e correção por IA apoiará o desenvolvimento de processos de semicondutores mais avançados.
A inteligência artificial já foi usada anteriormente para melhorar a litografia computacional. A Samsung afirmou que, ao usar a plataforma cuLitho da Nvidia e as bibliotecas CUDA-X para correção de proximidade óptica (OPC), o desempenho de sua litografia computacional melhorou em 20 vezes. A correção de proximidade óptica prevê e ajusta possíveis desvios de padrão que podem ocorrer quando o design do circuito é transferido para o wafer. O projeto mais recente expande esse método ao adicionar computação quântica ao processo de simulação, mas a tecnologia ainda está em desenvolvimento, e sua eficácia depende dos resultados da Prova de Conceito planejada.










