De acordo com pt.wedoany.com-A Universidade da Califórnia em Santa Bárbara (UC Santa Barbara, UCSB) recebeu 1,15 milhão de dólares da National Science Foundation (NSF) para adquirir um sistema de nanoimpressão 3D rápida baseado em litografia de dois fótons. O equipamento aprimorará a capacidade de fabricação da instalação de nanofabricação (Nanofab) da UCSB.
O pesquisador principal que lidera a proposta é o professor Galan Moody do Departamento de Engenharia Elétrica e de Computação da UCSB, com colaboradores incluindo quatro co-pesquisadores principais: Marley Dewey do Departamento de Engenharia Biológica, Andrew Jayich do Departamento de Física, Sumita Pennathur do Departamento de Engenharia Mecânica e Andrea Young do Departamento de Física. Moody afirmou que este financiamento permitirá à UCSB liderar em uma classe de ferramentas ainda raras na academia americana, com apenas algumas universidades no país possuindo equipamentos com tais funcionalidades.
A equipe acredita que o equipamento preenche uma lacuna nos métodos de fabricação existentes. A proposta indica que, embora as ferramentas atuais de nanofabricação possam realizar fabricação planar (bidimensional) em escala de wafer de semicondutores, dielétricos e metais com resolução de cerca de dez nanômetros, elas estão se aproximando de seus limites; para criar microestruturas tridimensionais cada vez mais críticas, são frequentemente necessárias etapas adicionais complexas e demoradas. Moody explicou que as técnicas tradicionais de litografia só podem transferir padrões para filmes finos com espessura de apenas algumas centenas de nanômetros, quase sem espaço para construção na dimensão vertical.
Ao contrário dos sistemas de fabricação aditiva anteriores que criam objetos tridimensionais empilhando camadas finas, o novo sistema pode imprimir microestruturas diretamente em um chip de forma verdadeiramente tridimensional. A capacidade única deste sistema abre novos caminhos para a nanofabricação e microfabricação de estruturas e dispositivos complexos, sem estar limitado por geometrias ou planos bidimensionais. Uma área de aplicação típica é a fotônica quântica, onde a perda de luz ao passar do chip para a fibra óptica é um problema persistente. O equipamento pode imprimir lentes de polímero com largura inferior a 50 micrômetros na borda do chip ou na fibra óptica para otimizar o modo óptico, minimizando a perda de luz durante o acoplamento.
