A TRUMPF apresentará sua série de lasers de pulso ultracurto TruMicro e soluções de aplicação relacionadas na LASER World of PHOTONICS CHINA, que acontece de 18 a 20 de março de 2026, no estande 2406, Hall N2 do Shanghai New International Expo Centre. Esta série de produtos, que já recebeu o Prêmio Alemão do Futuro, cobre a cadeia completa do desenvolvimento à produção em massa e já obteve aprovação para aplicação em produção em massa por várias empresas líderes nos setores de painéis e semicondutores.
O laser UV femtossegundo TruMicro 6320 da TRUMPF é projetado para produção contínua e possui um dos maiores volumes de vendas no mercado entre os lasers UV femtossegundo de nível de produção em massa. Com sua saída de alta potência estável, largura de pulso ultracurta e tecnologia de duplicação de frequência UV, este equipamento pode reduzir significativamente o efeito térmico no processamento, alcançar efeitos sem lascas e é adequado para corte superficial de wafers e corte de precisão de materiais de embalamento avançado, contribuindo para melhorar a eficiência de produção e o rendimento do produto.
A TRUMPF possui vantagens tecnológicas no controle da saída de energia. Sua estratégia de regulação inteligente permite uma distribuição otimizada de energia no domínio do tempo, por exemplo, excitando múltiplos pulsos em dezenas de nanossegundos para aproveitar a superposição de energia e aumentar a eficiência do processamento. Combinada com tecnologia de modelagem de feixe, ela pode converter a energia do laser em formas de ponto específicas necessárias para determinados processos. Por exemplo, no processamento de substratos de embalamento com núcleo de vidro, o ponto pode ser ajustado para uma forma fina e alongada semelhante a uma agulha, permitindo a criação de orifícios em nanoescala na superfície do vidro, garantindo estabilidade e repetibilidade do processo.
A série TruMicro, baseada em diversas plataformas de tecnologia laser, como fibra, disco e amplificador de lâmina, oferece boa escalabilidade e pode se adaptar às demandas em constante evolução do mercado e dos clientes. A TRUMPF também oferece vários módulos de conversão de comprimento de onda, incluindo módulos de duplicação de frequência que convertem lasers IR femtossegundo em luz verde, UV e UV profundo. Combinados com módulos de compressão de pulso e de harmônicos de alta ordem, eles podem gerar luz UV extrema de 13,5 nm, adequada para áreas de ponta como inspeção de wafers e inspeção de máscaras fotográficas.
A TRUMPF convida profissionais do setor para visitar o estande 2406, Hall N2, no Shanghai New International Expo Centre, de 18 a 20 de março, para explorar mais possibilidades de aplicação da tecnologia de processamento a laser no embalamento avançado de semicondutores.
